База даних Перспективні винаходи України
Українська  English


Вхід
Ім'я:
Пароль:
Зареєструватись
ПОЛІРУВАЛЬНИЙ СКЛАД
Номер патенту88598
Дата набуття чинності26.10.2009
Індекс МПКG01T 1/202 (2009.01), C09G 1/00, C09C 1/02
Дата подання заявки29.05.2009
ВинахідникАндрющенко Любов Андріївна, Гриньов Борис Вікторович, Бояринцев Андрій Юрійович, Волошина Людмила Іллівна, Зосим Дмитро Іванович, Зеленська Ольга Віталіївна, Кудін Олександр Михайлович, Тарасов Володимир Олексійович
Власник патентуІнститут сцинтиляційних матеріалів НАН України
Реферат

Винахід стосується полірувального складу, який застосовують для полірування поверхні кристалів. Винахід забезпечує поліпшення сцинтиляційних характеристик при мінімальному відхиленні лінійних розмірів від заданої геометрії кристалів активованого йодиду цезію. Полірувальний склад містить абразивний порошок, тетраетоксисилан, олігоорганосилоксан з кінематичною в'язкістю 5-100 сСт, а також додатково неонол АФ-9 та етиловий спирт.

Формула
Технічний результат

В основу пропонованого винаходу поставлено задачу - розробити полірувальний склад для кристалів активованого йодиду цезію, зокрема з великим співвідношенням H/D, що забезпечує поліп-шення сцинтиляційних характеристик детекторів при мінімальному відхиленні лінійних розмірів від заданої геометрії.

Галузь застосуванняПриладобудування
Ступінь готовності до впровадженняДослідний зразок